蔡司Sigma系列产品集场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）技术与良好的用户体验于一体，助您轻松实现构建成像和分析程序，同时提高工作效率。您可以将其用于新材料和颗粒的质量监测，或研究生物和地质样本。Sigma可实现高分辨率成像，它采用低电压，能在1 kV或更低电压下实现更高的分辨率和对比度。它出色的EDS几何学设计可执行高级显微分析，以两倍的速度和更高的精度获取分析数据。

使用Sigma系列，畅游高端纳米分析世界。

• Sigma 360是一款直观的成像和分析FE-SEM，是分析测试平台的理想之选。
  

• Sigma 560采用先进的EDS几何学设计，可提供高通量分析，实现自动原位实验。

• 从设置到获取基于人工智能的结果，均提供专业向导，为您保驾护航，助您探索直观成像工作流。

• 可在1 kV和更低电压下分辨差异，实现更高的分辨率和对比度。

• 可在极端条件下执行可变压力成像，获得出色的非导体成像结果。

• 新NanoVP lite模式和新探测器很容易在电压低于5 kV时，从非导体中轻松获取高质量数据。

• 这样，就可增强成像和X射线能谱分析的性能，提供更多表面敏感信息，缩短采集时间，增强入射电子束流，提高能谱面分布分析速度。

• aBSD1（环形背散射电子探测器）或新一代C2D（级联电流）探测器可确保在低电压条件下采集到出色图像。

• 即使您是新手用户，也能轻松获得专业结果。Sigma系列获取图像迅速，易于学习和使用的工作流可节省培训时间，简化从导航到后期处理的每个步骤，让您如虎添翼。

• 蔡司SmartSEM Touch中的软件自动化可助您完成导航、参数设置和图像采集等步骤。

• 接下来，ZEN core便可大显身手：它配备针对具体任务的工具包，适用于后期处理。我们十分推荐人工智能工具包，它可助您基于机器学习进行图像分割。 

• 光学镜筒是成像和分析性能的关键。Sigma配用蔡司Gemini 1电子光学镜筒，可对任何样品提供出色的成像分辨率，尤其是在低电压条件下。

• Sigma 360的低电压分辨率目前500 V时为1.9 nm。通过大幅度降低色差，1 kV时的分辨率已提升10%以上，可达1.3 nm。

• 现在成像比以往任何时候都轻松，无论是要求苛刻的样品，还是在可变压力（VP）模式下采用背散射探测。

• 新NanoVP lite模式和新探测器很容易在电压低于5 kV时，从非导体中轻松获取高质量数据。

• 这样，就可增强成像和X射线能谱分析的性能，提供更多表面敏感信息，缩短采集时间，增强入射电子束流，提高能谱面分布分析速度。

• aBSD1（环形背散射电子探测器）或新一代C2D（级联电流）探测器可确保在低电压条件下采集到出色图像。

• 即使您是新手用户，也能轻松获得专业结果。Sigma系列获取图像迅速，易于学习和使用的工作流可节省培训时间，简化从导航到后期处理的每个步骤，让您如虎添翼。

• 蔡司SmartSEM Touch中的软件自动化可助您完成导航、参数设置和图像采集等步骤。

• 接下来，ZEN core便可大显身手：它配备针对具体任务的工具包，适用于后期处理。我们十分推荐人工智能工具包，它可助您基于机器学习进行图像分割。 

• 对实体样品进行高效分析：基于SEM的高速和通用分析。

• 实现原位实验自动化：无人值守测试的全集成实验室。

• 可在低于1 kV的条件下完成要求苛刻的样品成像：采集完整的样品信息。

• 在1 kV或甚至在500 V时实现信息量丰富的成像和分析：Sigma 560的低千伏分辨率500 V时为1.5 nm。
  在新的NanoVP lite模式下，使用新型aBSD或C2D探测器

• 在可变压力下轻松拍摄要求苛刻的样品，加速电压可低至3 kV。

• 正在研究电子设备的您肯定希望保持清洁的工作环境。使用等离子清洗仪（强烈推荐）和可通过6英寸晶圆的新型大尺寸样品交换舱，防止您的样品室受到污染。
  

• Sigma 560的一流EDS几何学设计可提高分析效率。两个180°径向相对的EDS端口确保了即使在低电压小束流条件下，也能实现高通量无阴影元素面分布。

• 样品室的附加EBSD和WDS端口可进行除EDS外的分析。

• 不导电样品也可以使用全新的NanoVP lite模式进行分析，并能获得更强的信号和更高的对比度。

• 全新的aBSD4探测器可轻松实现表面形貌复杂样品的图像采集。

• Sigma原位实验室是一种全集成式解决方案，它可以不依赖操作人员，通过无人值守的自动化工作流进行加热和拉伸测试。

• 通过对纳米级别的特征进行3D分析进一步扩展您的工作流：执行3D STEM断层成像或基于人工智能的图像分割。

• 新aBSD4可实现实时3D表面建模（3DSM）。

• 在1 kV或甚至在500 V时实现信息量丰富的成像和分析：Sigma 560的低千伏分辨率500 V时为1.5 nm。
  在新的NanoVP lite模式下，使用新型aBSD或C2D探测器

• 在可变压力下轻松拍摄要求苛刻的样品，加速电压可低至3 kV。

• 正在研究电子设备的您肯定希望保持清洁的工作环境。使用等离子清洗仪（强烈推荐）和可通过6英寸晶圆的新型大尺寸样品交换舱，防止您的样品室受到污染。
  

• Sigma 560的一流EDS几何学设计可提高分析效率。两个180°径向相对的EDS端口确保了即使在低电压小束流条件下，也能实现高通量无阴影元素面分布。

• 样品室的附加EBSD和WDS端口可进行除EDS外的分析。

• 不导电样品也可以使用全新的NanoVP lite模式进行分析，并能获得更强的信号和更高的对比度。

• 全新的aBSD4探测器可轻松实现表面形貌复杂样品的图像采集。

• Gemini 1电子光学系统由三个元件组成：物镜、电子束推进器和Inlens探测器。其中，物镜的设计将静电场与磁场相结合，大大优化光学性能的同时，降低了样品受到的磁场影响。 

• 如此也可实现对磁性材料等具有挑战性的样品的高品质成像。Inlens探测原理通过对二次电子（SE）和/或背散射电子（BSE）的探测来确保高效的信号检测，同时大幅缩短获取图像的时间。 

• 电子束推进器保证了小尺寸的电子束斑和高信噪比。
  

• Sigma配备了一系列不同的探测器，通过新探测技术对您的样品进行表征。 

• 使用ETSE和Inlens探测器的高真空模式可获取表面形貌的高分辨率信息。

• 使用VPSE或C2D探测器的可变压力模式可获得清晰图像。 

• 使用aSTEM探测器可进行高分辨率透射电子成像。

• 采用不同的可选BSE探测器，如aBSD探测器，可以深入研究样品的成分和表面形貌。

标准VP（左）和NanoVP lite（右）模式，气体分布（粉红色），电子束裙边（绿色）。

采用NanoVP lite模式进行分析和成像，在低电压条件下可获得更高的图像质量，更快速地获取更准确的分析数据。

• 在NanoVP lite模式下，裙边效应降低且电子束的气体路径长度（BGPL）减小。裙边减小会提高SE和BSE成像的信噪比。

• 带有五象限的可伸缩式的环形aBSD可提供出色的材料成分衬度：在NanoVP lite工作过程中，该探测器配备了安装在极靴下方的束流套管，其可提供低电压下的高通量高衬度成分和表面形貌成像，适用于可变压力和高真空条件。